2009年10月21日

第５回　京都・先端ナノテクポケット講習会
「フォトリソグラフィとPDMSモールディングによるマイクロ流路製作」

第５回　京都・先端ナノテクポケット講習会
「フォトリソグラフィとPDMSモールディングによるマイクロ流路製作」 
京都・先端ナノテクポケット講習会は、ナノスケールの物質合成、 計測・分析、微細加工等について、最新の技術動向とその応用、 さらには装置の操作方法を含めての実践的講習を行い、それぞれの ナノテクノロジー研究・開発に活用していただくことを目的として、 京都・先端ナノテク総合支援ネットワークが主催するものです。
　第5回にあたる今回の講習会では、フォトリソグラフィ関連装置を用いて、 MicroTASにおいて必須のマイクロ流路の製作・使用法をご案内します。一日目午前の講演では、MicroTASの背景についてご説明するとともに、 実習に直結したフォトリソグラフィ技術、シリコーンゴムであるPDMSを用いた モールディング技術、また流体デバイスを用いた応用について紹介します。一日目午後から二日目にかけての実習では、実際にデバイス製作を体験していただけるよう少人数のグループに分かれて、スタッフのサポートのもと作業を進めていただきます。

開催日：10月21日(水) 10時00分～16時00分　午前講演、午後実習
　　　　10月22日(木) 10時00分～16時00分　午前・午後実習
会　場：京都大学　吉田キャンパス　VBL2階セミナールーム（講演）、
　　　　VBLおよび物理系校舎（実習）
募　集：講演３０名程度
　　　　実習１０名程度
　　　　(希望者多数の場合は事務局で調整させていただきます。)
参加費：無料（会場までの交通費は各自負担）
 お申込：http://nsn.kyoto-u.ac.jp/apply/
(一日目午後と二日目の実習を希望される場合は該当欄にチェックを入れてください。)
イベント詳細：http://nsn.kyoto-u.ac.jp/index.php?p=1109
お問合せメール：nsn1021@nsn.kyoto-u.ac.jp